電子元器件用超蒸餾水設備,半導體,模塊化控制電路用超純水系統

●生產工藝工藝步驟

       預清理－一個反滲透膜工作會更－投加藥劑機（PH調理）－期間水箱的價格－2、級反加入（正帶電粒子反滲膜）－期間水箱的價格－EDI部件－純化無塔供水設備水箱－純增壓泵－UVUV線消毒器－增加光澤混床－0.2高精度過濾程序器－使用水進行點（≥18MΩ.CM）(2016的工藝)

      預清理－第一反進行滲透－投藥機（PH調低）－中間的發動機水廂－第二種級反滲入（正正電荷反滲膜）－純發動機水廂－純增壓泵－EDI設備－太陽極為線殺菌的器－0.2或0.5μm精密加工過濾程序器－供水點（≥17MΩ.CM）(全新流程)

      ●要求參考資料 

     國度光電級超去離子水要求

模塊化電源線路用(yong)超注射用(yong)水水質(zhi)標準(zhun)

●機 特色

 為適合業主(zhu)需求(qiu)，適合適合準則的(de)(de)水(shui)的(de)(de)質量，盡已經地(di)減(jian)輕縣(xian)級的(de)(de)環(huan)保問(wen)題(ti)，延(yan)時生產設(she)備的(de)(de)食用期(qi)、縮減(jian)控制(zhi)運(yun)作員(yuan)的(de)(de)程序(xu)(xu)(xu)維護運(yun)作量.在(zai)制(zhi)作工(gong)藝制(zhi)作上，取(qu)達(da)政府干(gan)凈(jing)的(de)(de)自來水(shui)準則的(de)(de)水(shui)為源水(shui)，設(she)置多(duo)物質凈(jing)化水(shui)器(qi)，特(te)異性(xing)碳凈(jing)化水(shui)器(qi)，鈉亞鐵(tie)正(zheng)離(li)(li)子(zi)軟化劑器(qi)、緊密凈(jing)化水(shui)器(qi)等(deng)預加工(gong)處(chu)理程序(xu)(xu)(xu)、RO反固(gu)化監控主(zhu)機程序(xu)(xu)(xu)、亞鐵(tie)正(zheng)離(li)(li)子(zi)更換混床(chuang)（EDI電除鹽(yan)程序(xu)(xu)(xu)）、拋光混床(chuang)程序(xu)(xu)(xu)等(deng)。

●應用領域

    ?化工公司食(shi)材的(de)產出和加工制作時所要(yao)的(de)高沸點溶(rong)劑及(ji)洗時

    ?超純(chun)資料和超純(chun)催(cui)化(hua)采(cai)血管

    ?實驗報告室和(he)中試駕間

    ?電(dian)子(zi)無線(xian)半導體芯(xin)片、模塊化(hua)三極管板(ban)中用到(dao)的(de)紙業材

    ?石(shi)英石(shi)、硅物(wu)料手工(gong)加工(gong)、手工(gong)加工(gong)、制(zhi)備

    ?高純墨盒(he)、發傳真網頁uv平(ping)板機中的噴墨、納米級墨盒(he)